400-677-0098
臥式化學氣相沉積爐(沉積炭)
臥式化學氣相沉積爐(沉積炭)
產品描述:
臥式化學氣相沉積爐(沉積炭)主要用于以碳氫氣體(如C3H8、CH4等)為碳源的材料表面或基體的CVD/CVI處理。
應用范圍:
炭/炭復合材料剎車盤、坩堝、模具等

臥式化學氣相沉積爐(沉積炭)技術特征

采用多溫區獨立控溫,溫度均勻性好;

采用特殊結構沉積室,密封效果好,抗污染能力強;

采用多通道沉積氣路,流場均勻,無沉積死角,沉積效果好;

對炭沉積過程中產生的焦油、固體粉塵、有機氣體等能進行有效處理。

臥式化學氣相沉積爐(沉積炭)產品規格

參數\型號HCVD-060609-CHCVD-101015-CHCVD-121220-CHCVD-151530-CHCVD-151535-C
工作區尺寸 W×H×L(mm)600×600×9001000×1000×15001200×1200×20001500×1500×30001500×1500×3500
最高溫度(℃)15001500150015001500
溫度均勻性(℃)±7.5±7.5±10±10±10
極限真空度(Pa)1-1001-1001-1001-1001-100
壓升率(Pa/h)0.670.670.670.670.67
以上參數可根據工藝要求進行調整,不作為驗收依據,具體以技術方案和協議為準。

臥式化學氣相沉積爐(沉積炭)配置選擇

爐門:絲桿升降/液壓升降/手動升降;旋轉移開/平行移開(大尺寸爐門);手動鎖緊/自動縮圈鎖緊

爐殼:全碳鋼/內層不銹鋼/全不銹鋼

爐膽:軟碳氈/軟石墨氈/硬質復合氈/CFC   

加熱器、馬弗:等靜壓石墨/模壓三高石墨/細顆粒石墨

工藝氣路系統:體積/質量流量計;  

熱電偶:K分度號/N分度號/C分度號/S分度號

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