400-677-0098
真空燒結爐(碳化硅/氮化硅/氮化鋁)
真空燒結爐(碳化硅/氮化硅/氮化鋁)
產品描述:
該設備可用于陶瓷胚體和制品的反應燒結、無壓燒結、重結晶燒結等,也可用于陶瓷粉體材料的制備。具有臥式和立式兩種結構,可選配脫脂系統。
應用范圍:
碳化硅、氮化硅、氮化鋁等陶瓷制品。

真空燒結爐(碳化硅/氮化硅/氮化鋁)技術特征

采用頂立科技專屬超高溫、大電流引電技術,能在高溫條件下長時間穩定使用;

采用特殊的高溫紅外測量技術,控溫準確,誤差小;

配置專屬密封馬弗,產品產生的硅蒸汽等副產物對加熱器及絕緣材料等的污染小;

配備高效尾氣處理裝置,環境友好,易清理;

該設備可選擇配置脫脂系統,實現陶瓷制品的脫脂燒結一次性處理。

真空燒結爐(碳化硅/氮化硅/氮化鋁)產品規格

參數\型號 臥式真空燒結爐(碳化硅/氮化硅/氮化鋁) 立式真空燒結爐(碳化硅/氮化硅/氮化鋁)
HVSF-050511 HVSF-060612 HVSF-100612 HVSF-100825 HVSF-100840 VVSF-0612 VVSF-0918 VVSF-1120
工作區尺寸 W×H×L(mm) 500×500×1100 600×600×1200 1000×600×1200 1000×800×2500 1000×800×4000 φ600×1200 φ900×1800 φ1100×2000
最高溫度(℃) 1900/2400 1900/2400 1900/2400 1900/2400 1900/2400 1900/2400 1900/2400 1900/2400
溫度均勻性(℃) ±5 ±5 ±10 ±10 ±10 ±7.5 ±7.5 ±7.5
極限真空度(Pa) 1-100 1-100 1-100 1-100 1-100 1-100 1-100 1-100
壓升率(Pa/h) 0.67 0.67 0.67 0.67 0.67 0.67 0.67 0.67

以上參數可根據工藝要求進行調整,不作為驗收依據,具體以技術方案和協議為準。

真空燒結爐(碳化硅/氮化硅/氮化鋁)配置選擇

爐門:絲桿升降/液壓升降/手動升降;手動鎖緊/自動鎖圈鎖緊

爐殼:全碳鋼/內層不銹鋼/全不銹鋼

爐膽:軟碳氈/軟石墨氈/硬質復合氈/CFC

加熱器、馬弗:等靜壓石墨/模壓三高石墨/細顆粒石墨

熱電偶:C分度號/S分度號/R分度號/B分度號

紅外儀:單比色/雙比色;千野/雷泰

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