400-677-0098
立式真空水淬爐
立式真空水淬爐
產品描述:
立式真空水淬爐主要用于航空航天行業中的鈦合金固溶處理,如TC4、TC16、TC18、TC21等材料,儀表彈性元件中的鈹青銅固溶處理、航天傳感器中的鎳基、鈷基高彈性合金3J1、3J21和鎳基恒彈性合金3J53等精密合金固溶處理,核能領域中17-4PH、410等不銹鋼的固溶處理等。
應用范圍:
鈦合金固溶處理(如TC4、TC16等)、鎳基、鈷基高彈性合金3J1、3J21和鎳基恒彈性合金3J53等

立式真空水淬爐技術特征

爐體是立式雙室結構,依據實際狀況可選擇一體式結構或分體式結構;

工件承載方式:承載式,相比其它吊柜式結構更安全;

加熱室采用鉬屏結構;鉬加熱帶采用背絕緣技術;

全過程不需要惰性氣體參與,Ar氣消耗量為零;

配置一個裝料室,可實現連續化生產;

爐膽經模塊化優化設計,爐溫均勻性好;

垂直升降料車構成的淬火機構,相比臥式傳動淬火機構轉移時間更短;

專有技術,無須充入其它氣體壓制水蒸氣,徹底防治水蒸氣進入加熱室并杜絕真空泵組污染;

淬火配置制冷機,水溫可達5℃水淬效果更佳;

并且具有可擴展性,提高生產效率;

水蒸氣對加熱室和真空機組零污染。

立式真空水淬爐產品規格

參數\型號 VVWQ-3030D VVWQ-4040D VVWQ-5050D VVWQ-6060D VVWQ-8060D
有效熱區 D×H(mm) 300×300 400×400 500×500 600×600 800×600
裝載重量(Kg) 50 75 150 200 300
加熱功率(Kw) 60 90 120 150 210
最高溫度(℃) 1350 1350 1350 1350 1350
溫度均勻性(℃) ±5 ±5 ±5 ±5 ±5
真空度(Pa) 4×10-3/6×10-4 4×10-3/6×10-4 4×10-3/6×10-4 4×10-3/6×10-4 4×10-3/6×10-4
壓升率(Pa/h)
≤0.26 ≤0.26 ≤0.26 ≤0.26 ≤0.26
≤0.67 ≤0.67 ≤0.67 ≤0.67 ≤0.67
移送時間(S) ≤6 ≤6 ≤6 ≤6 ≤6
淬火介質 純凈水 純凈水 純凈水 純凈水 純凈水

以上參數可根據工藝要求進行調整,不作為驗收依據,具體以技術方案和協議為準。

立式真空水淬爐配置選擇

雙室垂直結構形式:整體式、加熱室移動式、水槽移動式

爐膽:鉬加熱元件與全金屬隔熱屏合成結構

真空泵組和真空計: 進口、高品質國產

PLC:西門子、歐姆龍、三菱

控溫儀表:島電、歐陸、霍尼韋爾

熱電偶:K型分度號、N型分度號、S型分度號

記錄儀:有紙記錄儀、無紙記錄儀

人機界面:模擬屏、計算機觸摸屏

電器元件:高品質國產、施耐德、西門子

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